Инструменты для выращивания наноструктур

Основные изделия от Beneq включают ряд исследовательских приборов и технологическое оборудование для разработанных фирмой процессов nHALO (nanosize Hot Aerosol Layering Operation — нанесение нанопокрытий горячим аэрозолем), nAERO (для нанесения на стекло низкоэмиссионных и прозрачных проводящих оксидных покрытий — TCO, Transparent Conducting Oxide) и технологии осаждения атомного слоя (ALD, Atomic Layer Deposition).
В процессе nAERO капли субмикронного размера прямо осаждаются на горяее стекло и формируют равномерную пленку, причем процесс можно адаптировать к скорости транспортировки стекла на флоат-линии и на линиях для последующей обработки стекла.
Технология ALD — это метод нанесения на подложки различного типа тонкопленочных покрытий для изготовления точных сплошных конформных покрытий слоями толщиной, сравнимой с размерами атома.
Системы Beneq ALD Thin Film спроектированы для осаждения тонких пленок оксидов, нитридов и сульфидов на металлы, полимеры и биосовместимые материалы. Технология ALD применяется в оптике, трибологии, для пассивации и нанесения первичных высокоточных тонкопленочных слоев для получения изделий с плоскими или сложными трехмерными наноструктурами.
В течение этого года Beneq запустил в производство новые установки для нанесения ALD-покрытий TFS 200 (планарная технология) и ее разновидности TFS 200R для нанесения покрытий на рулонные материалы (Roll-to-Roll ALD).
Обе установки пригодны для научно-исследовательских работ и для коммерческого применения для изготовления малых партий и единичных изделий с уникальными свойствами. Оба устройства предназначены для выращивания наноструктур с более сложной конфигурацией, чем послойное сплошное осаждение.
Управление установками – от встроенной системы ЧПУ и внешнего ПК, который выступает в роли накопителя данных об эксперименте, задания программ работы и обслуживания.
Установка TFS 200 (см. рис 1.) предназначена для нанесения тонкопленочных конформных слоев без дефектов, называемых pinhole (прокол, микроканал, поpa), на подложки из различных материалов. Исследователям предоставляется возможность использовать до 15 источников различных реагентов (8 источников газообразных, 3 – жидких и 4 – горячих реактивов) и обеспечение температуры реакции до 500°C.
У TFS 200 также имеется блок для прямой и удаленной вспомогательной плазменной обработки и герметичный (вакуумный) защитный стол с перчатками для оператора для работы с чувствительными к воздуху подложками и реагентами.
Отделяемая реакционная камера может быть снята сразу после процесса осаждения, а другая, чистая камера может быть установлена для продолжения экспериментов сразу же без необходимости переналадки установки. Это позволяет организовать практически непрерывный процесс и обслуживать сразу несколько заказчиков в день.
Установка TFS 200 совместима с требованиями Класс 100 (ISO 5) по чистоте помещения и дружественна к пользователю. Можно заранее задавать очередность и безопасную смену реагентов-прекурсоров в виде газовых смесей, жидкостей и даже использовать нелетучих твердых прекурсоров.


Рис. 1. Общий вид установки TFS 200


Рис. 2. Система нагрева, гидро- и пневмосистемы установки TFS 200 компактно размещены в станине

Устройство управления с легким для применения языком программирования позволяет полностью контролировать установку как в рабочем режиме, так и в режиме обслуживания и переналадки. Система позволяет легко прочищать, промывать а затем удалять влагу как из источников реагентов, так и из рабочей камеры. 1 2 3 Следующая

Журнал ОКНА. ДВЕРИ. ВИТРАЖИ




Смотрите также


Copyright © 2010-2018 remondom.ru. Контакты: info@remondom.ru При использовании веб-сайта Справочник строителя, гиперссылка на источник обязательна.